4차 산업혁명으로 불리는 정보통신 융합의 시대에 꼭 필요한 AI, lol, VR, Robot, Self-driving car 구현의
첨병이 되고 있는 반도체는 그 진화의 역사가 미세 Patterning의 역사와 함께 하고 있습니다.
TOK는 이 미세 Patterning 을 가능하게 하는 첨단 전자재료 제품군을 제공하고 있습니다.

g-line, i-line용 Photo resist로 부터, KrF, ArF Dry, ArF Immersion 용 Photo resist 뿐만 아니라,
차세대 미세Patterning 기술로 주목받고 있는 EUV와 e-beam 노광용 재료의 개발, 양산에도 적극적으로
임하고 있고, 기존 미세 Pattering 기술에 High-purity Technology와 Equipment의 장점을 복합적으로
살려 Lithography 관련 새로운 Solution 을 제안하고 고객의 요구에 적극적으로 대응할 수 있는 system을
갖추고 있습니다.